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| 英文名称： |
Test methods for oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction |
| 标准状态： |
已废止 |
 中标分类： |
综合>>标准化管理与一般规定>>A01技术管理 |
| 发布部门： |
中华人民共和国电子工业部 |
| 发布日期： |
1995-04-22 |
| 实施日期： |
1995-10-01
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| 作废日期： |
2010-01-20
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| 归口单位： |
电子工业部标准化研究所 |
| 起草单位： |
电子工业部第46研究所 |
| 起草人： |
何秀坤、汝琼娜、李光平、段曙光 |
| 页数： |
5页 |
| 出版社： |
电子工业部标准化研究 |
| 出版日期： |
1995-09-01 |
| 标准前页： |
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