半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 -电感耦合等离子体原子发射光谱法 |
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| 标准编号：JC/T 2133-2012 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：18.0 元 |
客户评分：  |
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本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。 |
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| 英文名称： |
Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method |
 中标分类： |
医药、卫生、劳动保护>>医药>>C14解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药 |
| ICS分类： |
化工技术>>71.040分析化学 |
| 发布部门： |
中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： |
2012-12-28 |
| 实施日期： |
2013-06-01
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| 归口单位： |
全国工业陶瓷标准化技术委员会功能陶瓷分技术委员会 |
| 起草单位： |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 起草人： |
陈奕睿 等 |
| 页数： |
8页 |
| 出版社： |
建材工业出版社 |
| 出版日期： |
2013-06-01 |
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