表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定 |
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| 标准编号：GB/T 30701-2014 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：43.0 元 |
客户评分：  |
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本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。
注:可采用石墨炉原子吸收光谱法或电感耦合等离子体质谱法代替全反射X 射线荧光光谱法来测定所收集的元素。
本标准适用于原子表面密度介于6×109atoms/cm2~5×1011atoms/cm2 范围的铁和/或镍。 |
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| 英文名称： |
Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy |
 中标分类： |
化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法 |
| ICS分类： |
化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析 |
| 采标情况： |
ISO 17331:2004 IDT |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2014-06-09 |
| 实施日期： |
2014-12-01
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| 提出单位： |
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38) |
| 归口单位： |
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38) |
| 主管部门： |
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38) |
| 起草单位： |
中国计量科学研究院。 |
| 起草人： |
王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。 |
| 页数： |
24页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2014-12-01 |
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本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准使用翻译法等同采用ISO17331:2004《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》。
本标准纳入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正内容,这些修正内容涉及的条款已通过在其外侧页边空白位置的垂直双线(‖)进行了标示。
本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。
本标准起草单位:中国计量科学研究院。
本标准主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。 |
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前言 Ⅲ
引言 Ⅳ
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
4 缩略语 2
5 试剂 2
6 仪器设备 5
7 试样制备及其测量环境 5
8 校准试样的制备 6
9 绘制校准曲线 7
10 工作标准样品上铁和/或镍的收集 8
11 工作标准样品上所收集铁和/或镍的测定 9
12 精密度 9
13 测试报告 9
附录A (资料性附录) 国际实验室间试验项目结果 11
附录B(资料性附录) 国际实验室间试验项目的GF-AAS和ICP-MS测量结果 14 |
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ISO14644-1:1999 洁净室和相关控制环境 第1部分:空气洁净度的分级
ISO14706:2000 表面化学分析 硅片表面元素污染的全反射X 射线荧光光谱法(TXRF)测定 |
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