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 您的位置:工标网 >> 有色金属行业标准(YS) >> YS/T 1025-2015

电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

国家标准
标准编号:YS/T 1025-2015 标准状态:现行
标准价格:16.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材,简称高纯钨及钨合金靶。
英文名称:  High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物
什么是ICS分类?  ICS分类:  冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品
发布部门:  中华人民共和国工业和信息化部
发布日期:  2015-04-30
实施日期:  2015-10-01
提出单位:  全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
什么是归口单位? 归口单位:  全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
主管部门:  全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
起草单位:  宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司
起草人:  姚力军、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海军、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路
页数:  8页
出版社:  中国标准出版社
书号:  155066·2-29184
出版日期:  2015-10-01
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前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
本标准起草单位:宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司。
本标准主要起草人:姚力军、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海军、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路。
引用标准
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GB/T4324.23 钨化学分析方法 第23部分:硫量的测定 燃烧电导法和高频燃烧红外吸收法
GB/T4324.25 钨化学分析方法 第25部分:氧量的测定 脉冲加热惰气熔融-红外吸收法
GB/T4324.26 钨化学分析方法 第26部分:氮量的测定 脉冲加热惰气熔融-热导法和奈氏试剂分光光度法
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YS/T901 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
本标准相关公告
·中华人民共和国工业和信息化部公告 2015年(第28号) [2015-05-15]

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