工业硅化学分析方法 第9部分:钛含量的测定 二安替吡啉甲烷分光光度法 |
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标准编号:GB/T 14849.9-2015 |
标准状态:现行 |
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标准价格:24.0 元 |
客户评分: |
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GB/T14849的本部分规定了工业硅中钛含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中钛含量的测定,测定范围(质量分数):0.0010%~0.30%。 |
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英文名称: |
Methods for chemical analysis of silicon metal— Part 9:Determination of titanium content— Diantipyryl methane spectrophotometry |
中标分类: |
冶金>>金属化学分析方法>>H12轻金属及其合金分析方法 |
ICS分类: |
冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金 |
发布部门: |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
发布日期: |
2015-09-11 |
实施日期: |
2016-06-01
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提出单位: |
中国有色金属工业协会 |
归口单位: |
中国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243) |
起草单位: |
昆明冶金研究院 |
起草人: |
赵德平、刘英波、王云舟、杨毅、刘光榕、石磊、刘维理、安中庆、周娅、聂长虹、匡祝香、赵建为、金波、胡智弢、滕亚君、张洁、程堆强、张云晖、唐飞、汤珊 |
页数: |
8页 |
出版社: |
中国标准出版社 |
出版日期: |
2016-06-01 |
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GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为11个部分:
———第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法;
———第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法;
———第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法;
———第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法;
———第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法;
———第6部分:碳含量的测定 红外吸收法;
———第7部分:磷含量的测定 磷钼蓝分光光度法;
———第8部分:铜含量的测定 原子吸收光谱法;
———第9部分:钛含量的测定 二安替吡啉甲烷分光光度法;
———第10部分:汞含量的测定 氢化物发生-原子荧光光谱法;
———第11部分:六价铬含量的测定 二苯碳酰二肼分光光度法。
本部分为 GB/T14849的第9部分。
本部分按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本部分由中国有色金属工业协会提出。
本部分由中国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本部分负责起草单位:昆明冶金研究院。
本部分参加起草单位:云南永昌硅业股份有限公司、云南省出入境检验检疫局、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、浙江合盛硅业有限公司、通州标准技术服务有限公司。
本部分主要起草人:赵德平、刘英波、王云舟、杨毅、刘光榕、石磊、刘维理、安中庆、周娅、聂长虹、匡祝香、赵建为、金波、胡智弢、滕亚君、张洁、程堆强、张云晖、唐飞、汤珊。 |
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