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氮化镓单晶位错密度的测量 阴极荧光显微镜法

国家标准
标准编号:GB/T 32282-2015 标准状态:现行
标准价格:29.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了用阴极荧光显微镜法测试氮化镓单晶位错密度的方法。
本标准适用于位错密度在1×103 个/cm2~5×108 个/cm2 之间的氮化镓单晶中位错密度的测试。
英文名称:  Test method for dislocation density of GaN single crystal—Cathodoluminescence spectroscopy
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  冶金>>77.040金属材料试验
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2015-12-10
实施日期:  2016-11-01
提出单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)
起草单位:  中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司
起草人:  曾雄辉、张燚、董晓鸣、牛牧童、刘争晖、邱永鑫、王建峰、徐科
页数:  12页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2016-11-01
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前言
本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司。
本标准主要起草人:曾雄辉、张燚、董晓鸣、牛牧童、刘争晖、邱永鑫、王建峰、徐科。
引用标准
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GB/T14264 半导体材料术语
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本标准相关公告
·中华人民共和国国家标准批准发布公告2015年第38号 [2015-12-28]

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