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| 英文名称： |
Test methods for edge contour of silicon wafers |
 替代情况： |
替代YS/T 26-1992 |
| 中标分类： |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： |
2016-07-11 |
| 实施日期： |
2017-01-01
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| 提出单位： |
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243) |
| 归口单位： |
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243) |
| 主管部门： |
工业和信息化部 |
| 起草单位： |
洛阳单晶硅集团有限责任公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司 |
| 起草人： |
田素霞、李战国、苗利刚、焦二强、安瑞阳、邵成波、王文卫 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2018-08-01 |