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| 英文名称： |
Test method for particles on polished silicon wafer surfaces |
 替代情况： |
替代GB/T 19921-2005 |
| 中标分类： |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2018-12-28 |
| 实施日期： |
2019-07-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院、天津市环欧半导体材料技术有限公司 |
| 起草人： |
孙燕、刘卓、冯泉林、徐新华、张海英、骆红、刘义、杨素心、张雪囡 |
| 页数： |
32页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2018-12-01 |