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| 英文名称： |
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon |
 中标分类： |
化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法 |
| ICS分类： |
化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2021-05-21 |
| 实施日期： |
2021-12-01
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| 提出单位： |
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38) |
| 归口单位： |
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38) |
| 起草单位： |
中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 起草人： |
马农农、何友琴、陈潇、张鑫、王东雪、李展平 |
| 页数： |
16页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2021-05-01 |
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