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 您的位置:工标网 >> 国家标准(GB) >> GB/T 24578-2015

硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

国家标准
标准编号:GB/T 24578-2015 标准状态:现行
标准价格:31.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
1.1 本标准规定了使用全反射X光荧光光谱定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片)尤其适用于硅片清洗后自然氧化层或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定测定范围为109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2。本标准同样适用于其他半导体材料如砷化镓、碳化硅、SOI等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。
1.2 对良好的镜面抛光表面可探测深度约5nm分析深度随表面粗糙度的改善而增大。
1.3 本方法可检测元素周期表中原子序数16(S)~92(U)的元素尤其适用于测定以下元素:钾、钙、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、砷、钼、钯、银、锡、钽、钨、铂、金、汞和铅。
1.4 本方法的检测限取决于原子序数、激励能、激励X射线的光通量、设备的本底积分时间以及空白值。对恒定的设备参数无干扰检测限是元素原子序数的函数其变化超过两个数量级。重复性和检测限的关系见附录A。
1.5 本方法是非破坏性的是对其他测试方法的补充与不同表面金属测试方法的比较及校准样品的标定参见附录B。
英文名称:  Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
什么是替代情况? 替代情况:  GB/T 24578-2024代替;替代GB/T 24578-2009
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  冶金>>77.040金属材料试验
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2015-12-10
实施日期:  2017-01-01
作废日期:  2025-02-01  即将作废 距离作废日期还有39
提出单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位:  有研新材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心
起草人:  孙燕、李俊峰、楼春兰、潘紫龙、朱兴萍
页数:  16页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2017-01-01
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