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| 英文名称： |
Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy |
 替代情况： |
替代GB/T 24578-2009 |
| 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2015-12-10 |
| 实施日期： |
2017-01-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
有研新材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心 |
| 起草人： |
孙燕、李俊峰、楼春兰、潘紫龙、朱兴萍 |
| 页数： |
16页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2017-01-01 |