标准编号 |
标准名称 |
发布部门 |
实施日期 |
状态 |
GB/T 11073-2007 |
硅片径向电阻率变化的测量方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2008-02-01 |
现行 |
GB/T 14849.1-2020 |
工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 |
国家市场监督管理总局.
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2021-02-01 |
现行 |
GB/T 14849.3-2020 |
工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定 |
国家市场监督管理总局.
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2021-02-01 |
现行 |
GB/T 14849.4-2008 |
工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定素含量 |
国家质量监督检验检疫.
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2008-12-01 |
作废 |
GB/T 1557-2018 |
硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 |
国家市场监督管理总局.
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2019-06-01 |
现行 |
GB/T 17170-2015 |
半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2016-07-01 |
现行 |
GB/T 19199-2015 |
半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2016-07-01 |
现行 |
GB/T 19921-2005 |
硅抛光片表面颗粒测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2006-04-01 |
作废 |
GB/T 19922-2005 |
硅片局部平整度非接触式标准测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2006-04-01 |
现行 |
GB/T 24578-2015 |
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2017-01-01 |
现行 |
GB/T 24581-2022 |
硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法 |
国家市场监督管理总局.
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2022-10-01 |
即将实施 |
GB/T 26067-2010 |
硅片切口尺寸测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2011-10-01 |
现行 |
GB/T 26070-2010 |
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2011-10-01 |
现行 |
GB/T 26074-2010 |
锗单晶电阻率直流四探针测量方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2011-10-01 |
现行 |
GB/T 32277-2015 |
硅的仪器中子活化分析测试方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2017-01-01 |
现行 |
GB/T 32281-2015 |
太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法 |
国家质量监督检验检疫.
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2017-01-01 |
现行 |
GB/T 35306-2017 |
硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法 |
国家质量监督检验检疫.
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2018-07-01 |
现行 |
GB/T 35309-2017 |
用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程 |
国家质量监督检验检疫.
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2018-07-01 |
现行 |
GB/T 37211.1-2018 |
金属锗化学分析方法 第1部分:砷含量的测定 砷斑法 |
国家市场监督管理总局.
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2019-11-01 |
现行 |
GB/T 37211.2-2018 |
金属锗化学分析方法 第2部分:铝、铁、铜、镍、铅、钙、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
国家市场监督管理总局.
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2019-11-01 |
现行 |
GB/T 37385-2019 |
硅中氯离子含量的测定 离子色谱法 |
国家市场监督管理总局.
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2020-02-01 |
现行 |
GB/T 38976-2020 |
硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法 |
国家市场监督管理总局.
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2021-06-01 |
现行 |
GB/T 39144-2020 |
氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法 |
国家市场监督管理总局.
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2021-09-01 |
现行 |
GB/T 39145-2020 |
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
国家市场监督管理总局.
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2021-09-01 |
现行 |
GB/T 4059-2007 |
硅多晶气氛区熔基磷检验方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2008-02-01 |
作废 |
GB/T 4059-2018 |
硅多晶气氛区熔基磷检验方法 |
国家市场监督管理总局.
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2019-11-01 |
现行 |
GB/T 4060-2007 |
硅多晶真空区熔基硼检验方法 |
国家质量监督检验检疫.
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2008-02-01 |
作废 |
GB/T 4060-2018 |
硅多晶真空区熔基硼检验方法 |
国家市场监督管理总局.
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2019-06-01 |
现行 |
GB/T 41153-2021 |
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法 |
国家市场监督管理总局.
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2022-07-01 |
即将实施 |
SN/T 1650-2005 |
金属硅中铁、铝、钙、镁、锰、锌、铜、钛、铬、镍、钒含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 |
国家质量监督检验检疫.
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2006-05-01 |
现行 |
YB/T 5312-2006 |
硅钙合金化学分析方法 高氯酸脱水重量法测定硅量 |
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2006-10-11 |
作废 |
YB/T 5314-2006 |
硅钙合金化学分析方法 EDTA滴定法测定铝量 |
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2006-10-11 |
作废 |
YB/T 5315-2006 |
硅钙合金化学分析方法 磷钼蓝分光光度法测定磷量 |
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2006-10-11 |
作废 |
YB/T 5316-2006 |
硅钙合金化学分析方法 红外线吸收法测定碳量 |
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2006-10-11 |
作废 |
YB/T 5317-2006 |
硅钙合金化学分析方法 红外线吸收法和燃烧碘酸钾滴定法测定硫量 |
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2006-10-11 |
作废 |
YS/T 1059-2015 |
硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法 |
工业和信息化部
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2015-10-01 |
现行 |
YS/T 1060-2015 |
硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法 |
工业和信息化部
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2015-10-01 |
现行 |
YS/T 1107-2016 |
羧乙基锗倍半氧化物化学分析方法 |
工业和信息化部
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2016-09-01 |
现行 |
YS/T 1165-2016 |
高纯四氯化锗中铜、锰、铬、钴、镍、钒、锌、铅、铁、镁、铟和砷的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
工业和信息化部
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2017-01-01 |
现行 |
YS/T 226.1-2009 |
硒化学分析方法 第1部分:铋量的测定 氢化物发生-原子荧光光谱法 |
工业和信息化部
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2010-06-01 |
现行 |