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| 英文名称： |
Test method for measuring radial resistivity variation on silicon wafers |
| 标准状态： |
即将实施 |
 替代情况： |
替代GB/T 11073-2007 |
| 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2025-10-31 |
| 实施日期： |
2026-05-01
即将实施 距离实施日期还有11天 |
| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243) |
| 起草单位： |
麦斯克电子材料股份有限公司、洛阳鸿泰半导体有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、山东有研艾斯半导体材料有限公司、中环领先半导体科技股份有限公司、浙江中晶科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司等 |
| 起草人： |
方丽霞、郭可、马武祥、邢胜昌、张志林、寇文杰、王江华、朱晓彤、邓春星、黄笑容、潘金平、李慎重、冯天、尚海波、马金峰 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |