磁控溅射设备薄膜精度测试方法 |
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| 标准编号：T/CIE 132-2022 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：26.0 元 |
客户评分：  |
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本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。
本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。 |
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| 英文名称： |
Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment |
 中标分类： |
机械>>通用机械与设备>>J78真空技术与设备 |
| ICS分类： |
流体系统和通用件>>23.160真空技术 |
| 发布部门： |
中国电子学会 |
| 发布日期： |
2022-08-10 |
| 实施日期： |
2022-08-10
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| 提出单位： |
中国电子学会 |
| 归口单位： |
中国电子学会 |
| 起草单位： |
北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司 |
| 起草人： |
赵巍胜、张博宇、程厚义、SylvainEIMER、彭守仲、许涌、PierreVALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆 |
| 页数： |
16页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
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