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碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

国家标准
标准编号:GB/T 41153-2021 标准状态:现行
标准价格:24.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。
本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析,测定范围为硼含量不小于5×1013 cm-3、铝含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3,元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。
英文名称:  Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  冶金>>77.040金属材料试验
发布部门:  国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期:  2021-12-31
实施日期:  2022-07-01
提出单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位:  中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司
起草人:  马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩
页数:  8页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2021-12-01
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本标准相关公告
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