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| 英文名称： |
The activation analysis method for the determination of elemental impurities in semiconductor silicon materials |
| 标准状态： |
已废止 |
 替代情况： |
废止公告：国家标准公告2017年第31号 |
| 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： |
29.040.30 |
| UDC分类： |
669.782;543.06;621.315.592 |
| 发布部门： |
国家标准局 |
| 发布日期： |
1984-03-28 |
| 实施日期： |
1985-03-01
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| 作废日期： |
2017-12-15
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| 首发日期： |
1984-03-28 |
| 复审日期： |
2004-10-14 |
| 提出单位： |
有色金属总公司 |
| 归口单位： |
中国有色金属工业协会 |
| 主管部门： |
中国有色金属工业协会 |
| 起草单位： |
有色金属研究总院 |
| 起草人： |
周云鹿、章家鼎 |
| 页数： |
18页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
1985-03-01 |
| 标准前页： |
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