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| 英文名称： |
ArF Dry photo resist for Integrated circuits |
 中标分类： |
化工>>化学试剂>>G64高纯试剂、高纯物质 |
| ICS分类： |
电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： |
中关村集成电路材料产业技术创新联盟 |
| 发布日期： |
2020-12-31 |
| 实施日期： |
2021-03-01
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| 提出单位： |
中关村集成电路材料产业技术创新联盟 |
| 归口单位： |
中关村集成电路材料产业技术创新联盟 |
| 起草单位： |
宁波南大光电材料有限公司 |
| 起草人： |
许从应、毛智彪、马潇、顾大公、陈伟琴、李珊珊 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
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