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英文名称: |
Guidelines for photomask defect classification and size definition |
中标分类: |
电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备 |
ICS分类: |
电子学>>31.020电子元件综合 |
采标情况: |
SEMI P22-1993,IDT |
发布部门: |
国家技术监督局 |
发布日期: |
1997-06-20 |
实施日期: |
1998-03-01
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首发日期: |
1997-06-20 |
复审日期: |
2004-10-14 |
归口单位: |
全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
主管部门: |
国家标准化管理委员会 |
起草单位: |
中国科学院微电子中心 |
页数: |
平装16开, 页数:7, 字数:10千字 |
出版社: |
中国标准出版社 |
书号: |
155066.1-14347 |
出版日期: |
2004-08-10 |
标准前页: |
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