|
| 英文名称： |
Hard surface photomask substrates |
 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备 |
| ICS分类： |
31.030 |
| 采标情况： |
SEMI P1-1992,NEQ |
| 发布部门： |
国家技术监督局 |
| 发布日期： |
1995-01-02 |
| 实施日期： |
1996-08-01
|
| 首发日期： |
1995-12-22 |
| 复审日期： |
2004-10-14 |
| 归口单位： |
全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
国家标准化管理委员会 |
| 起草单位： |
长沙韶光微电子总公司 |
| 页数： |
平装16开， 页数：13， 字数：19千字 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
1996-08-01 |
| 标准前页： |
浏览标准前文 || 下载标准前页 |
|