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掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

国家标准
标准编号:GB/T 17866-1999 标准状态:现行
标准价格:31.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括:含特制图形缺陷的测试芯片,以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单集合而成,所以在本标准中,测试芯片是用单图形、单图形中的特制缺陷、以及单的布局来定义的。此外,测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。
英文名称:  Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
什么是中标分类? 中标分类:  电子元器件与信息技术>>微电路>>L56半导体集成电路
什么是ICS分类?  ICS分类:  电子学>>31.200集成电路、微电子学
什么是采标情况? 采标情况:  idt SEMI P23:1993
发布部门:  国家质量技术监督局
发布日期:  1999-09-01
实施日期:  2000-06-01
首发日期:  1999-09-13
复审日期:  2004-10-14
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体材料和设备标准化技术委员会
主管部门:  国家标准化管理委员会
起草单位:  中国科学院微电子中心
页数:  平装16开, 页数:13, 字数:21千字
出版社:  中国标准出版社
书号:  155066.1-16384
出版日期:  2004-08-22
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