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硅片厚度和总厚度变化测试方法

国家标准
标准编号:GB/T 6618-2009 标准状态:现行
标准价格:16.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片和外延片(简称硅片)厚度和总厚度变化的分立式和扫
描式测量方法。
本标准适用于符合GB/T12964、GB/T12965、GB/T14139规定的尺寸的硅片的厚度和总厚度变
化的测量。在测试仪器允许的情况下,本标准也可用于其他规格硅片的厚度和总厚度变化的测量。
英文名称:  Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices
什么是替代情况? 替代情况:  替代GB/T 6618-1995
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
什么是ICS分类?  ICS分类:  电气工程>>29.045半导体材料
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2009-10-30
实施日期:  2010-06-01
首发日期:  1986-07-26
提出单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
主管部门:  国家标准化管理委员会
起草单位:  北京有研半导体材料股份有限公司
起草人:  卢立延、孙燕、杜娟
计划单号:  20065630-T-469
页数:  12页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2010-06-01
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前言
本标准代替GB/T6618-1995《硅片厚度和总厚度变化测试方法》。
本标准与GB/T6618-1995相比,主要有如下变化:
---将适用范围扩展到外延片;
---增加了第4章干扰因素;
---增加了150mm 和200mm 两种规格的基准环的尺寸;
---增加了7.2仪器校正的内容。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位:北京有研半导体材料股份有限公司。
本标准主要起草人:卢立延、孙燕、杜娟。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB6618-1986、GB/T6618-1995。
引用标准
GB/T2828.1 计数抽样检验程序 第1 部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
(GB/T2828.1-2003,ISO28591:1999,IDT)
GB/T12964 硅单晶抛光片
GB/T12965 硅单晶切割片和研磨片
GB/T14139 硅外延片
本标准相关公告
·中华人民共和国国家标准批准发布公告2009年第12号(总第152号) [2009-11-17]

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