工标网 回首页
标准分类  最新标准New!  标准公告 标准动态  标准论坛
 高级查询
帮助 | 登录 | 注册
查标准上工标网 免费查询标准最新替代作废信息
 您的位置:工标网 >> 国家标准(GB) >> GB/T 12963-2014

电子级多晶硅

国家标准
标准编号:GB/T 12963-2014 标准状态:已作废
标准价格:24.0 客户评分:星星星星1
立即购买工即可享受本标准状态变更提醒服务!
点击放入购物车 如何购买?问客服 放入收藏夹,免费跟踪本标准更替信息! 参与评论本标准
标准简介
本标准规定了多晶硅的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、储存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于以氯硅烷、硅烷制得的多晶硅。
英文名称:  Electronic-grade polycrystalline silicon
标准状态:  已作废
什么是替代情况? 替代情况:  GB/T 12963-2022代替;替代GB/T 12963-2009
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>半金属与半导体材料>>H82元素半导体材料
什么是ICS分类?  ICS分类:  电气工程>>29.045半导体材料
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2014-12-31
实施日期:  2015-09-01
作废日期:  2023-07-01
提出单位:  半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)
什么是归口单位? 归口单位:  半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)
起草单位:  峨嵋半导体材料研究所、四川新光硅业科技有限责任公司、有研半导体材料股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司
起草人:  詹科、杨旭、种娜、黎亚文、梁洪、孙燕、刘晓霞、银波、甘新业、严大洲
页数:  8页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2015-09-01
相关搜索: 多晶硅  [ 评论 ][ 关闭 ]
前言
本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替 GB/T12963—2009《硅多晶》。本标准与 GB/T12963—2009相比,主要有如下变动:
———增加引用国家标准 GB/T1551、GB/T1557、GB/T24574、GB/T24581、GB/T24582(见第2章);
———增加了多晶硅的技术参数,包括施主杂质浓度、受主杂质浓度、氧浓度、基体金属杂质浓度、表面金属杂质浓度的要求(见表1);
———不同等 级 多 晶 硅 的 碳 浓 度 由 <1.5×1016atoms/cm3、<2×1016 atoms/cm3、<2×1016
atoms/cm3修订为<4.0×1015atoms/cm3、<1.0×1016atoms/cm3、<1.5×1016atoms/cm3(见表1)。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
本标准起草单位:峨嵋半导体材料研究所、四川新光硅业科技有限责任公司、有研半导体材料股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司。
本标准起草人:詹科、杨旭、种娜、黎亚文、梁洪、孙燕、刘晓霞、银波、甘新业、严大洲。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T12963—1991、GB/T12963—1996、GB/T12963—2009。
引用标准
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T1551 硅单晶电阻率测定方法
GB/T1553 硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法
GB/T1557 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
GB/T1558 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T4059 硅多晶气氛区熔基磷检验方法
GB/T4060 硅多晶真空区熔基硼检验方法
GB/T4061 硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法
GB/T13389 掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
GB/T14264 半导体材料术语
GB/T24574 硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法
GB/T24581 低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中Ⅲ、Ⅴ族杂质含量的测试方法
GB/T24582 酸浸取-电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质

元素半导体材料相关标准 第1页 
 GB 12964-1991 硅单晶抛光片
 GB/T 12964-1996 硅单晶抛光片
 GB/T 12964-2003 硅单晶抛光片
 GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片
 GB 12965-1991 硅单晶切割片和研磨片
 GB/T 12965-1996 硅单晶切割片和研磨片
 GB/T 12965-2005 硅单晶切割片和研磨片
 GB/T 12965-2018 硅单晶切割片和研磨片
 GB/T 14139-2019 硅外延片
 GB/T 14140-2009  硅片直径测量方法
 免费下载元素半导体材料标准相关目录

半导体材料相关标准 第1页 第2页 
 GB/T 13387-2009  硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法
 GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
 GB/T 13389-2014 掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
 GB/T 14139-2009 硅外延片
 GB/T 14141-2009  硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
 GB/T 14144-2009  硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法
 GB/T 14146-2009 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
 GB/T 14264-2009 半导体材料术语
 GB/T 14264-2024 半导体材料术语
 GB/T 14844-2018 半导体材料牌号表示方法
 免费下载半导体材料标准相关目录

 发表留言
内 容
  用户:   口令:  
 
 
客服中心
有问题?找在线客服 点击和客服交流,我们的在线时间是:工作日8:30至18:00,节假日;9:00至17:00。工标网欢迎您和我们联系!
未开通400地区或小灵通请直接拨打0898-3137 2222 400-7255-888
客服QQ 1197428036 992023608
MSN或电子邮件 18976748618 13876321121
温馨提示:标准更新替换较快,请注意您购买的标准时效性。
常见问题 帮助中心
我为什么找不到我想要的标准?
配送范围、配送时间和收费标准
如何付款,支持哪些付款方式?
您浏览过的标准  清除
海底电缆通道监控预警系统技术规范
电子器件详细规范 3DG162型高..
信息技术 开放系统互连 目录 第2部..
电子器件详细规范 3DG3130 ..
室外照明干扰光限制规范
信息技术 文本和办公系统的键盘布局 ..
必备软件下载
Adobe Acrobat Reader 是一个查看、 阅读和打印PDF文件的最佳工具,通 过它可以查阅本站的标准文档
pdf下载
搜索更多
google 中搜索:GB/T 12963-2014 电子级多晶硅
baidu 中搜索:GB/T 12963-2014 电子级多晶硅
yahoo 中搜索:GB/T 12963-2014 电子级多晶硅
soso 中搜索:GB/T 12963-2014 电子级多晶硅
中搜索:GB/T 12963-2014 电子级多晶硅
 
付款方式 - 关于我们 - 帮助中心 - 联系我们 - 诚聘英才 - 合作伙伴 - 使用条款
QQ:1197428036 992023608 有问题? 联系在线客服
Copyright © 工标网 2005-2023,All Right Reserved