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2006年全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会秘书处会议安排


    来源:中国有色金属工业标准计量质量研究所     更新时间:2006-05-16       评论: 0

第一次会议:项目包括(修改)   (洛阳)     六月

国标

项目名称

主起草单位

备注

GB/T 14264-1993

半导体材料术语

中国有色金属工业标准计量质量研究所、有色院等

第二次会议

GB/T 1555-1997

半导体单晶晶向测定方法

峨嵋半导体材料厂

讨论会 

GB/T 1558-1997

硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法

峨嵋半导体材料厂

讨论会

GB/T 4058-1995

硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

峨嵋半导体材料厂

讨论会

GB/T 6616-1995

半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定  非接触涡流法

有研半导体材料股份有限公司

讨论会

GB/T 6617-1995

硅片电阻率测定  扩展电阻探针法

中科院半导体所

讨论会

GB/T 6618-1995

硅片厚度和总厚度变化测试方法

有研半导体材料股份有限公司

讨论会

GB/T 6619-1995

硅片弯曲度测试方法

洛阳单晶硅有限责任公司

讨论会

GB/T 6620-1995

硅片翘曲度非接触式测试方法

洛阳单晶硅有限责任公司

讨论会

GB/T 6621-1995

硅抛光片表面平整度测试方法

上海合晶硅材料有限公司

讨论会

GB/T 6624-1995

硅抛光片表面质量目测检验方法

上海合晶硅材料有限公司

讨论会

GB/T 10118-1988

高纯镓

有研半导体材料股份有限公司

讨论会

GB/T 11072-1989

锑化铟多晶、单晶及切割片

峨嵋半导体材料厂

讨论会

GB/T 13387-1992

电子材料晶片参考面长度测量方法

有研半导体材料股份有限公司

讨论会

GB/T 13388-1992

硅片参考面结晶学取向X射线测量方法

有研半导体材料股份有限公司

讨论会

GB/T 14141-1993

硅处延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定  直排四探针法

峨嵋半导体材料厂

讨论会 

GB/T 14146-1993

硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法

峨嵋半导体材料厂

讨论会

 

第二次会议:项目包括          (青岛)       八月

国标

项目名称

主起草单位

备注

GB/T 1550-1997

非本征半导体材料导电类型测试方法

峨嵋半导体材料厂

讨论会

整合

GB/T 1551-1995

GB/T 1552-1995

硅、锗单晶电阻率测定  直流两探针法

硅、锗单晶电阻率测定  直排四探针法

广州半导体所

讨论会

GB/T 1553-1997

硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法

峨嵋半导体材料厂

讨论会 

GB/T 1554-1995

硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法

峨嵋半导体材料厂

讨论会

GB/T 4061-1983

硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法

洛阳中硅

讨论会

GB/T 10117-1988

高纯锑

峨嵋半导体材料厂

讨论会

GB/T 12963-1996

硅多晶

洛阳单晶硅有限责任公司

讨论会

GB/T 14140-1993

硅片直径测量方法

洛阳单晶硅有限责任公司

讨论会

GB/T 14139-1993

硅外延片

上海合晶硅材料有限公司

讨论会 

GB/T 14144-1993

硅晶中间隙氧含量径向变化测量方法

峨嵋半导体材料厂

讨论会

整合

GB/T 15713-1995GB/T 5238-1995

锗单晶、锗单晶片

南京锗厂有限责任公司

讨论会

 

第三次会议:项目包括           半导体年会

国标

项目名称

主起草单位

备注

GB/T 14264-1993

半导体材料术语

中国有色金属工业标准计量质量研究所

审定

GB/T

太阳能电池用单晶硅

中国有色金属工业标准计量质量研究所

讨论会

GB/T

太阳能电池用多晶硅

中国有色金属工业标准计量质量研究所

讨论会

GB/T

使用全反射X光荧光光谱测量硅片表面金属玷污的测试方法

有研半导体材料股份有限公司

讨论会

GB/T

半导体衬垫材料的亚表面损伤偏振反射差分谱(RDS)测试方法

中国科学院半导体研究所

讨论会

GB/T

硅片平整度、厚度及厚度变化测试 自动非接触扫描法

上海合晶硅材料有限公司

讨论会

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