2006年全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会秘书处会议安排
第一次会议:项目包括(修改) (洛阳) 六月
国标
项目名称
主起草单位
备注
GB/T 14264-1993
半导体材料术语
中国有色金属工业标准计量质量研究所、有色院等
第二次会议
GB/T 1555-1997
半导体单晶晶向测定方法
峨嵋半导体材料厂
讨论会
GB/T 1558-1997
硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T 4058-1995
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
GB/T 6616-1995
半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
有研半导体材料股份有限公司
GB/T 6617-1995
硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
中科院半导体所
GB/T 6618-1995
硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T 6619-1995
硅片弯曲度测试方法
洛阳单晶硅有限责任公司
GB/T 6620-1995
硅片翘曲度非接触式测试方法
GB/T 6621-1995
硅抛光片表面平整度测试方法
上海合晶硅材料有限公司
GB/T 6624-1995
硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T 10118-1988
高纯镓
GB/T 11072-1989
锑化铟多晶、单晶及切割片
GB/T 13387-1992
电子材料晶片参考面长度测量方法
GB/T 13388-1992
硅片参考面结晶学取向X射线测量方法
GB/T 14141-1993
硅处延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
GB/T 14146-1993
硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
第二次会议:项目包括 (青岛) 八月
GB/T 1550-1997
非本征半导体材料导电类型测试方法
整合
GB/T 1551-1995
GB/T 1552-1995
硅、锗单晶电阻率测定 直流两探针法
硅、锗单晶电阻率测定 直排四探针法
广州半导体所
GB/T 1553-1997
硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法
GB/T 1554-1995
硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
GB/T 4061-1983
硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法
洛阳中硅
GB/T 10117-1988
高纯锑
GB/T 12963-1996
硅多晶
GB/T 14140-1993
硅片直径测量方法
GB/T 14139-1993
硅外延片
GB/T 14144-1993
硅晶中间隙氧含量径向变化测量方法
GB/T 15713-1995、GB/T 5238-1995
锗单晶、锗单晶片
南京锗厂有限责任公司
第三次会议:项目包括 半导体年会
中国有色金属工业标准计量质量研究所
审定
GB/T
太阳能电池用单晶硅
太阳能电池用多晶硅
使用全反射X光荧光光谱测量硅片表面金属玷污的测试方法
半导体衬垫材料的亚表面损伤偏振反射差分谱(RDS)测试方法
中国科学院半导体研究所
硅片平整度、厚度及厚度变化测试 自动非接触扫描法