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| 英文名称： |
200 mm silicon epitaxial wafer |
 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料>>H82元素半导体材料 |
| ICS分类： |
电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2017-12-29 |
| 实施日期： |
2018-07-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院 |
| 起草人： |
马林宝、骆红、杨帆、金龙、杨素心 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |